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新型計算機內存大幅減少(shǎo)能耗

發布(bù)時間: 2023-06-28 作者: 分享到:
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  2023年06月28日09:18 | 來源:科技日報小字號

  原標(biāo)題:新型計算機內存大(dà)幅減少能(néng)耗

  科技(jì)日報訊 (記者張夢然)英國(guó)研究人員開發了一種新的計算機內存設計方法,可(kě)極大地提高性能並減(jiǎn)少互聯網和通信技術(shù)的能源需求(qiú)。劍(jiàn)橋大學研究團隊開發的這種仿照人腦突觸方式處理數據的設備,基於氧化鉿和(hé)微型自組裝(zhuāng)勢壘(lěi),勢壘可升高或降低以允(yǔn)許電子通(tōng)過。這種改變計算機存儲設備電阻(zǔ)並允許信息處理和存儲器存在於同一位(wèi)置的方法,可能會(huì)導致密度更大、性能更高和能耗更低的計算(suàn)機存儲設(shè)備(bèi)出現。研究結果發表在..一期《科學(xué)進展》雜誌(zhì)上。

  計算機內(nèi)存(cún)效率低下(xià)問題的一(yī)個潛在解決方案是一種稱為電阻開關內存的新型技術。傳統的存儲設備具有兩種狀態:1或0。然而,功能正常的電阻開關存儲(chǔ)器件將(jiāng)能夠具有連續的狀態範圍,基於此原理的計算機(jī)存儲器件將具有更高的密度和速度。例如,基於連續範圍的典型USB內存能夠容納10倍到100倍的信息。

  研究團隊開發了一種基於氧化鉿的原型設備,氧化鉿是一種已用於(yú)半導體行業的絕緣(yuán)材料。研究人員發現,通過在氧化鉿薄膜(mó)中添加鋇,複合材料中開始形成一些垂直於氧化鉿平麵(miàn)的不尋常結構。

  這些垂(chuí)直的富鋇“橋”具有高度結構化,允(yǔn)許電子通(tōng)過,而周圍(wéi)的氧化鉿保持非結(jié)構化。在這些橋與(yǔ)器件觸點相交的地方,形成了(le)電子可穿過的能量勢壘。研究人(rén)員能控製(zhì)該勢壘的高度,從而改變複合材料的(de)電阻。與隻有兩種狀態的傳統存儲器不同,新設備允許材料中存在多(duō)種狀態。

  與其他需要昂貴的高溫製造方法的材料不同,這些氧化鉿複合材料可在低溫(wēn)下自組裝表現出高水平的性能和均勻性,使其(qí)在下(xià)一代內存應用中極具前景。

  研究人員稱,這些材料真正令人興奮的(de)是它們可像(xiàng)大腦中的突觸一樣工作:它們可在同(tóng)一個地方存儲和處理信息,這使得它們在快速發展的人工智能和機器學習領(lǐng)域非(fēi)常有前途。

  (責編:羅知之、陳鍵)

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